苏大维格：微纳光学技能使用开拓者

　　1、公司具有微纳光学制作完好产业链；2、净赢利年均复合增长率到达23.71%；3、技能研制与制作范畴位居国内抢先位置。

　　苏大维格（300331）是我国微纳光学技能使用的开拓者，国内抢先的微纳光学产品制作和技能服务商。依托强壮的研制实力和丰厚的效果转化经历，公司使用微纳光学制作技能不断开发新产品，扩展新范畴，完成了快速开展。从2001年建立至今，公司通过了创业孵化期产品导入期快速成长期。

　　公司首要从事微纳光学产品的规划、开发与制作，要害制作设备的研制和相关技能研制服务。公司的微纳光学产品包含公共安全防伪资料、镭射包装资料、新式显现光学资料三类；设备首要是微纳光学产品制作用光刻设备。产品首要使用于公共安全防伪、镭射包装资料和新式显现及照明等范畴。陈述期内公司微纳光学产品出售收入（不含出售设备、技能服务收入）占公司主营业务收入的份额分别为95.02%、97.48%和98.23%。

　　与传统型制作业企业不同，公司并非坚守现有产品使用规划，而是充分发挥微纳光学技能根底性、通用性强的特色，不断寻觅新的使用范畴，构成新的赢利增长点。2007年公司建立维旺科技专心于新式显现及照明光学膜的研制与制作；自二代身份证开端，公司将微纳光学技能使用于公共安全防伪范畴，2008年公司研制的DMD技能与双通道光变色膜在国内新版机动车驾驶证、行驶证上全面使用，成为公司新的赢利增长点；在镭射包装资料范畴，公司以镭射膜为起点，向下流镭射纸延伸，产品用处也从烟标扩展到酒标，出售规划快速扩展。

　　公司是国内少量具有微纳光学制作完好产业链的企业之一。微纳光学制作产业链首要包含配备制作、微纳结构规划、原版开发、规划化出产四个环节，公司凭仗本身技能研制、使用立异等方面的实力，获得并稳固了产业链优势。

　　凭仗我国内需商场快速开展的关键，公司出产的公共安全防伪资料、镭射包装资料产品使用规划快速扩展，而且活跃开发新式显现与照明商场，全力进步公司在微纳光学职业界的位置，使公司收入规划继续扩展，盈余才能快速提高，2009-2011年公司完成的归属于母公司所有者的净赢利分别为2660.80万元、3,441.92万元和4,072.32万元，年均复合增长率到达了23.71%。公司的盈余质量也较高，近三年经营活动发生的现金流量净额分别为3126.44万元、1687.71万元和4832.80万元，较高的盈余才能和杰出的盈余质量为公司继续、安稳的向股东供给分红报答奠定了坚实的根底。

　　公司在微纳光学产品技能研制与制作范畴位居国内抢先位置，职业抢先位置的获得源于公司继续的自主立异。公司积聚了光学理论、工程使用、光学检测、微纳米结构制作、电子通讯、软件与操控、数字图画处理、精细机械规划等专业优秀人才。公司在微纳光学制作范畴通过多年的研讨与开发，积累了多项具有自主知识产权的核心技能。现在，公司已获得29项专利，其间25项发明专利，4项实用新式专利。根据光刻设备操控软件的研讨，公司规划开发了系列专业光刻与图画处理软件，获得5项计算机软件著作权。

　　凭仗技能抢先性，公司技能和产品介入公安部各类证件的制作，定向光变色膜制作技能成功使用于国家第二代身份证，DMD技能与双通道光变色膜在新版驾驶证、行驶证上全面使用。

　　本次登陆创业板，公司拟发行1550万股A股，征集资金拟投向微纳结构光学产品技能改造项目、研制中心扩建技能改造项目和其他与主营业务相关的营运资金。募投项目的施行有望稳固公司在微纳光学制作职业的技能抢先位置，扩展公司在微纳光学制作职业的商场份额。