EUV光刻机3大核心：2大来自德国1大来自美国AS

　　众所周知，芯片领域有一种特别重要、特别关注的设备，中国技术相对落后，即光刻机，芯片制造的基本设备之一。特别是EUV光刻机，目前世界上只有ASML可以制造，许多人称EUV光刻机是人类建造的最复杂的机器之一，所以ASML也被许多人奉为“祭坛”，甚至说“给你一整套图纸，你不能制造光刻机”。

　　但如果你想让我说，ASML实际上只是一个装配厂，它整合了全球供应链，最终组装了什么EUV光刻机，你会怎么想？EUV光刻机的原理是什么？说起来超级简单，就是激光刺激13.5nm波长的极紫外线，然后矫正后形成一束可控光，然后用能量将这束光投射到光罩台上，再通过物镜投射到曝光台上，最后在涂有光刻胶的硅晶圆上蚀刻出电路。

　　EUV光刻机有三种核心技术，即光源（激光系统）、高精度镜头（物镜系统）、精密仪器制造技术(工作台)。激光系统是一种产生极紫外线的系统，来自美国公司Cymer，2012年被ASML收购。高精度镜头，即激光收集成束和物镜系统，技术来源于德国蔡司，蔡司提出了世界上最平坦的性能元件，即分布式布拉格反射器。第三项核心技术，即精密仪器制造技术，也来自德国。就连核心一中的整体包装方案也是德国TRUMPF公司提供的。

　　据媒体报道，一台EUV光刻机有10多万个零件，其中ASML只掌握了不到10%的核心技术，其他90%依靠ASML全球整合资源，甚至需要全球进口。ASML最大的能力是了解客户需求，整合供应链，最终组装光刻机。当时ASML与台积电合作，世界上第一台渗透光刻机注定要成为这一特点。当时，尼康和佳能是光刻机的大哥。ASML只是一个小工厂。台积电建议用水作为介质。尼康和佳能傲慢自大，认为这是个坏主意。ASML是一家小工厂，看不到希望。也许自行车变成了摩托车。最后，这场战斗让ASML走出了未来。

　　所以ASML尝到了甜头，认识到了现实，也就是说，最重要的是看看各大晶圆厂需要什么样的东西，然后在全球范围内找到供应链，然后和客户一起研究实验，组装客户需要的东西。而不是沉浸在研究中，最终发现客户不需要这些东西，这是研发的失败，这是ASML的优势，也是芯片行业的丛林法则，也就是拯救游戏，把大利集团在一起，是核心。